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Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器

簡要描述:Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器
Femtoline寬帶激光分束器,鍍膜波長為720-880 nm或750-850 nm。激光損傷閾值:> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-17
  • 訪  問  量:934

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器


Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器

Femtoline寬帶激光分束器,鍍膜波長為720-880 nm或750-850 nm。激光損傷閾值:> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。

產(chǎn)品介紹

Ø在720-880 nm或750-850 nm鍍膜

Ø專為S或P偏振而設(shè)計

Ø激光損傷閾值:> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩束。

標準基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板,請從Precision Thin Round Windows中選擇。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

產(chǎn)品型號

波長范圍-720-880 nm,設(shè)計用于S偏振

型號

材料

尺寸

波長

反射

透射

偏振

AOI

042-7708SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

8±1 %

92±1 %

S-pol

45°

042-7720SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

20±5 %

80±5 %

S-pol

45°

042-7730SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

30±5 %

70±5 %

S-pol

45°

042-7740SB

UVFS

Ø25.4x3 mm

720-880 nm

40±5 %

60±5 %

S-pol

45°

042-7750SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

50±5 %

50±5 %

S-pol

45°

042-7760SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

60±5 %

40±5 %

S-pol

45°

042-7770SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

70±5 %

30±5 %

S-pol

45°

042-7780SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

80±5 %

20±5 %

S-pol

45°

042-7790SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

90±3 %

10±3 %

S-pol

45°

042-7795SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

95±2 %

5±2 %

S-pol

45°

045-7708SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

8±1 %

92±1 %

S-pol

45°

045-7720SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

20±5 %

80±5 %

S-pol

45°

045-7730SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

30±5 %

70±5 %

S-pol

45°

045-7740SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

40±5 %

60±5 %

S-pol

45°

045-7750SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

50±5 %

50±5 %

S-pol

45°

045-7760SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

60±5 %

40±5 %

S-pol

45°

045-7770SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

70±5 %

30±5 %

S-pol

45°

045-7780SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

80±5 %

20±5 %

S-pol

45°

045-7790SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

90±3 %

10±3 %

S-pol

45°

045-7795SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

95±2 %

5±2 %

S-pol

45°

波長范圍-750-850 nm,設(shè)計用于P偏振

型號

材料

尺寸

波長

反射

透射

偏振

AOI

042-7710PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

10±2 %

90±2 %

P-pol

45°

042-7720PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

20±5 %

80±5 %

P-pol

45°

042-7725PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

25±5 %

75±5 %

P-pol

45°

042-7730PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

30±5 %

70±5 %

P-pol

45°

042-7740PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

40±5 %

60±5 %

P-pol

45°

042-7750PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

50±5 %

50±5 %

P-pol

45°

042-7760PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

60±5 %

40±5 %

P-pol

45°

042-7770PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

70±5 %

30±5 %

P-pol

45°

042-7775PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

75±5 %

25±5 %

P-pol

45°

042-7780PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

80±5 %

20±5 %

P-pol

45°

042-7785PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

85±3 %

15±3 %

P-pol

45°

042-7790PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

90±3 %

10±3 %

P-pol

45°

042-7795PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

95±2 %

5±2 %

P-pol

45°

045-7710PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

10±2 %

90±2 %

P-pol

45°

045-7720PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

20±5 %

80±5 %

P-pol

45°

045-7725PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

25±5 %

75±5 %

P-pol

45°

045-7730PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

30±5 %

70±5 %

P-pol

45°

045-7740PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

40±5 %

60±5 %

P-pol

45°

045-7750PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

50±5 %

50±5 %

P-pol

45°

045-7760PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

60±5 %

40±5 %

P-pol

45°

045-7770PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

70±5 %

30±5 %

P-pol

45°

045-7775PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

75±5 %

25±3 %

P-pol

45°

045-7780PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

80±5 %

20±5 %

P-pol

45°

045-7785PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

85±3 %

15±3 %

P-pol

45°

045-7790PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

90±3 %

10±3 %

P-pol

45°

045-7795PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

95±2 %

5±2 %

P-pol

45°

 

基材

材料

紫外級熔融石英

S1表面平整度

633 nm時為λ/ 10

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面平整度

633 nm時為λ/ 10

S2表面質(zhì)量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

平行性

30弧秒

倒角

在45°典型值為0.3mm

 

鍍膜

技術(shù)

電子束多層電介質(zhì)

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

入射角

45±3°

背面防反射鍍膜

R <0.5%

激光損傷閾值

> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

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