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Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 800 NM

簡(jiǎn)要描述:Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 800 NM
鍍膜在800±20 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值,50 fsec脈沖,800 nm典型值和高反射率(R> 99.7%)

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-17
  • 訪  問  量:948

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 800 NM


Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 800 NM

鍍膜在800±20 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值,50 fsec脈沖,800 nm典型值和高反射率(R> 99.7%)

產(chǎn)品介紹

Ø在 800±20 nm處鍍膜

Ø激光損傷閾值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm

Ø由UVFS或BK7制造

Ø提供25.4或50.8mm尺寸

具有高激光損傷閾值的高反射率(R> 99.7%)電介質(zhì)鍍膜被應(yīng)用在激光后視鏡上。建議將UVFS基板用于高功率激光應(yīng)用。背面可以鍍?cè)鐾改?,可根?jù)要求避免從二表面反射回來。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

產(chǎn)品型號(hào)

BK7 Rear Mirrors at 800 nm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

基材

半徑

032-0800-i0

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-plano

062-8005

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-50 mm

062-8010

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-100 mm

062-8015

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-150 mm

062-8020

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-200 mm

062-8025

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-250 mm

062-8050

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-500 mm

062-8100

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-1000 mm

062-8200

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-2000 mm

062-8250

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-2500 mm

062-8400

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-4000 mm

062-8500

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-concave

-5000 mm

062-9010

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

100 mm

062-9020

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

200 mm

062-9050

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

500 mm

062-9100

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

1000 mm

062-9200

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

2000 mm

062-9400

BK7

ø25.4 x 6mm

800±20 nm

Plano-convex

4000 mm

035-0800-i0

BK7

ø50.8 x 8 mm

800±20 nm

Plano-plano

065-8005

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-50 mm

065-8010

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-100 mm

065-8015

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-150 mm

065-8020

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-200 mm

065-8025

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-250 mm

065-8050

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-500 mm

065-8100

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-1000 mm

065-8200

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2000 mm

065-8250

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2500 mm

065-8400

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-4000 mm

065-8500

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-5000 mm

065-9010

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

100 mm

065-9020

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

200 mm

065-9050

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

500 mm

065-9100

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

1000 mm

065-9200

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

2000 mm

065-9400

BK7

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

4000 mm

UVFS Rear Mirrors at 800 nm

型號(hào)

材料

尺寸

波長(zhǎng)

基材

半徑

042-0800-i0

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-plano

082-8005

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-50 mm

082-8010

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-100 mm

082-8015

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-150 mm

082-8020

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-200 mm

082-8025

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-250 mm

082-8050

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-500 mm

082-8100

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-1000 mm

082-8200

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2000 mm

082-8250

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2500 mm

082-8400

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-4000 mm

082-8500

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-concave

-5000 mm

082-9010

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

100 mm

082-9020

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

200 mm

082-9050

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

500 mm

082-9100

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

1000 mm

082-9200

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

2000 mm

082-9400

UVFS

ø25.4 x 6 mm

800±20 nm

Plano-convex

4000 mm

045-0800-i0

UVFS

ø50.8 x 8 mm

800±20 nm

Plano-plano

085-8005

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-50 mm

085-8010

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-100 mm

085-8015

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-150 mm

085-8020

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-200 mm

085-8025

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-250 mm

085-8050

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-500 mm

085-8100

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-1000 mm

085-8200

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2000 mm

085-8250

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-2500 mm

085-8400

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-4000 mm

085-8500

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-concave

-5000 mm

085-9010

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

100 mm

085-9020

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

200 mm

085-9050

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

500 mm

085-9100

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

1000 mm

085-9200

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

2000 mm

085-9400

UVFS

ø50.8 x 10 mm

800±20 nm

Plano-convex

4000 mm

 

基材

材料

UV級(jí)熔融石英或BK7玻璃

S1表面平整度

633 nm時(shí)為λ/ 10

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面質(zhì)量

簡(jiǎn)單拋光

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

倒角

在45°典型值為0.3mm

 

鍍膜

技術(shù)

電子束多層電介質(zhì)

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

入射角

0-8°(正常)

鍍膜

硬電介質(zhì)高反射率R> 99.7%

激光損傷閾值

> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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