簡(jiǎn)要描述:Eksma FEMTOLINE低級(jí)波片與多級(jí)板相比,低級(jí)板對(duì)溫度的敏感性和溫度依賴性較小。這些板適用于高功率應(yīng)用。
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品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE低級(jí)波片
Eksma FEMTOLINE低級(jí)波片
與多級(jí)板相比,低級(jí)板對(duì)溫度的敏感性和溫度依賴性較小。這些板適用于高功率應(yīng)用。
Ø厚度0.15-0.35
Ø比多級(jí)薄
產(chǎn)品型號(hào)
延遲λ/ 2
型號(hào) | 波長(zhǎng) | 延遲 | 直徑 | 安裝 | 通光孔徑 |
461-4208 | 1030 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4208D12 | 1030 nm | λ/2 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4215 | 800 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4215D12 | 800 nm | λ/2 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4220 | 780 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4220D12 | 780 nm | λ/2 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4232 | 515 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4232D12 | 515 nm | λ/2 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4235 | 400 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4241 | 343 nm | λ/2 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
延遲λ/ 4
型號(hào) | 波長(zhǎng) | 延遲 | 直徑 | 安裝 | 通光孔徑 |
461-4408 | 1030 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4408D12 | 1030 nm | λ/4 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4415 | 800 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4415D12 | 800 nm | λ/4 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4420 | 780 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4432 | 515 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4432D12 | 515 nm | λ/4 | ø 12.7 mm | Unmounted | ø 11 mm |
461-4435 | 400 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
461-4441 | 343 nm | λ/4 | ø 20 mm | ø 25.4 mm | ø 17 mm |
材料 | 單晶石英 |
光軸 | 垂直于緩速器圓周上的刻面 |
通光孔徑 | Ø17 |
波前畸變 | λ/ 10 @ 633nm |
環(huán)安裝外徑 | 25.4mm+ 0.0 / -0.2mm |
表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
平行性 | <10弧秒 |
增透膜 | R <0.5% |
激光損傷閾值 | 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800nm |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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